
(半导体清洗设备行业现状)
1工业纯水设备实行全自动手动冲洗,EDI装置无需化学再生,并节能回收2RO膜在机内可进行化学药物清洗3源水,纯水,超纯水箱液位实行全自动控制,高水位自动停机及自动清洗功能,低水位自动开机及前处理反冲洗功能。半导体清洗设备公司排名1、全球清洗设备市场中,日系企业占据绝对的主导地位,迪恩士DNS,SCREENS...
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