清洗方法主要分为物理清洗和化学清洗物理清洗包括刷洗高压清洗和超声波清洗刷洗和擦洗能有效清除颗粒和薄膜污染，高压清洗通过高压液体喷射去除表面污垢，超声波清洗则利用声波能量分解污染物然而，对于有图形的硅片，超声波清洗去除微小颗粒有挑战，需要使用超高频以提高效果化学清洗则针对原子和离子；超声波眼镜清洗机是一种利用超声波振...